10月26日上午，曹健林副部长与信息学院张荣君、微电子学院丁士进教授等一行10人赴上海新国际博览中心参观第90届中国电子展，考察90nm国产高端光刻机设备。

90nm国产高端光刻机设备项目是在国家02重大专项支持下，由长春国科精密与中国科学院上海光学精密机械研究所联合研发，目前已经顺利验收交付。国内装备在薄膜、溅镀、刻蚀工艺领域都已经取得突破进展，但最前端的光刻机目前仍是最困难的环节。中国首套光刻机曝光系统研发，可以说是目前是全世界难度最高的超精度技术，尤其在超精密光学领域, 迫切需要关键技术自主研发支撑。为此，曹健林副部长亲自担任国家02专项光刻机工程指挥长，推动国产光刻机的研制。

复旦大学新工科建设将微电子制造装备作为重点发展攻关的领域之一。复旦工研院杨晓峰教授团队正在参与光刻机的下一步研发工作，针对28纳米节点及以下浸没式光刻机的投影物镜的需求，开发高频响亚纳米步长尺蠖式压电陶瓷执行器和高精度光栅尺位移传感器，实现关键部件的国产化，同时开发六自由度超高精度可动机构测试台，保障物镜批量生产需要。

同行人员还参观了上海微电子装备有限公司等展台，进行技术交流和探讨。